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基于含巯基的两性离子多肽修饰的阿霉素衍生物、纳米胶束及其制备方法

专利号:ZL202010555917.3

专利类型:发明授权

发明人:王龙刚; 崔天明

公开(公告)日:2023-3-21

转化方式:转让、许可、作价入股

联系人:周老师

联系电话:0335-8518633

发明人 王龙刚; 崔天明 公开(公告)日 2023-3-21
专利类型 发明授权 转化方式 转让、许可、作价入股
联系人 周老师 联系电话 0335-8518633
本发明提供一种基于含巯基的两性离子多肽修饰的阿霉素衍生物、纳米胶束及其制备方法,属于生物医药领域。该阿霉素衍生物具有通式(I)结构,其制备方法包括:在极性溶剂中,将含巯基的两性离子多肽与丙烯酰肼混合反应后,结晶,得到多肽衍生物;再将多肽衍生物与盐酸阿霉素按照摩尔比1 : 0.2~5溶于极性溶剂中,加入三氟乙酸催化剂,搅拌反应后,得到该阿霉素衍生物。通过该阿霉素衍生物制备的纳米胶束,在体内的血液循环时间长,载药量高,毒副作用小,且具有良好的pH值响应,抑瘤效果佳。

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